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本发明公开了一种具有P型埋层的双沟道高耐压氮化镓场效应晶体管,P型埋层位于缓冲层中,所述第二势垒层和第二沟道层相接触形成二维电子气并与漏极相连,所述漏场板位于钝化层上并向栅极延伸,栅场板位于钝化层上并向漏极延伸。本发明提工作于关态高压时,第二势垒层与第二沟道层形成二维电子气与漏极相连,在栅漏之间引入了新的峰值电场,降低了漏极场板的的峰值电场,P型埋层的加入可以降低栅极场板处的峰值电场使栅漏之间的电场分布更加均匀,进一步的改善了栅漏之间的电场分布,并且P型埋层还降低了器件的泄漏电流,最终使该结构器件相对于传统的场板AlGaN/GaN绝缘栅场效应晶体管,耐压特性上有明显的改善。
📄 2019110503067 📂 H01L29_778 👤 杭州电子科技大学 📅 2019-10-30
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发明 已授权

一种具有P型埋层的双沟道高耐压氮化镓场效应晶体管

2019110503067 · 杭州电子科技大学
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🔋 高能量密度固态电解质材料与制备工艺
预算:¥50-100万截止:2026-08-30发布方:××新能源科技响应:8人

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转让方:中国科学院××研究所
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CRISPR基因编辑技术

转让方:××大学
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SiC功率器件工艺专利

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交易类型:转让
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钙钛矿光伏组件技术

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交易金额:¥50万/年