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本发明提供一种3C铝制件表面处理的PVD真空镀膜工艺，包含以下步骤：将铝制件清洗后放入真空室内加热烘干，随后向真空室内通入氩气，对铝制件进行离子清洗；离子清洗后，关闭氩气、辅助偏压，调整真空室的真空度；向真空室内通入氩气使真空度维持在10‑1 Pa数量级的动态平衡压强；依次为铝制件镀上Cr基层镀层、CrN第一过渡层、CrSiN第二过渡层和Cr第三过渡层；完成铝制件表面处理，此时铝制件的颜色为银色；换真空室，采用中频电源作为溅射电源，以多弧离子镀或真空平面磁控溅射镀工艺为铝制件镀上颜色层。本发明采用物理气相沉积原理对铝制件表面处理，该工艺过制程短，生产无污染，环保安全，且能耗水耗低，良品率高。

本发明涉及一种滤光片镀膜装置及镀膜工艺，装置包括腔室，腔室内安装有溅射发生器以及载具，溅射发生器包括放电电极与定位座，定位座内设有多个定位通道，各定位通道内设置有靶材，定位通道始端连接放电电极，载具包括工作盘、旋转机构以及支座，工作盘上端面设有多个收容腔，各收容腔内设置有基片，工作盘底部设有引流单元，引流单元主要由支撑件与引流件组成，引流件用于通电形成电性引流区域；腔室连接有气体控制单元，气体控制单元用于排空腔室内气体或流通等离子体载荷气体，并监控腔室内压力状态。本发明具有可靠的溅射范围，可提高膜间附着强度，镀膜形成的膜层致密性好，均匀性佳，有利于提高滤光片生产质量。