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本发明公开了一种卵圆形微波等离子体金刚石膜沉积装置，谐振腔体为卵圆形，波导和短路活塞设置在谐振腔体的顶部，同轴天线贯穿波导和谐振腔体的顶端，通过同轴天线将微波能量耦合进谐振腔体，同轴天线可上下移动；边缘沉积台设置在谐振腔体的中下部，可上下移动，中心沉积台设置在边缘沉积台的中间，可上下移动；石英钟罩设置在边缘沉积台，罩在中心沉积台上；进气管穿过谐振腔体的侧面和石英钟罩的顶部将气体送入石英钟罩；出气口设置在边缘沉积台，在中心沉积台的旁边。本发明有效解决了现有技术中存在的微波输入功率较低、缺少完善的调节措施、部件距离等离子体太近等问题。

本发明公开了一种利用双基片台MPCVD反应装置将人体头发作为碳源生长出单晶金刚石的方法，包含如下步骤：第一步，提供人体头发、单晶金刚石衬底以及双基片台MPCVD反应装置；第二步，将单晶金刚石衬底放在下基片台凹槽处，人体头发绑成头发束通过传送装置置于上基片台中心孔内；第三步，反应装置内通入氢气，产生微波等离子体，调节装置工艺参数，头发束以一定速度伸出上基片台中心孔并进入等离子体中被刻蚀，同时进行单晶金刚石生长；第四步，利用激光切除单晶衬底，得到由人体头发为碳源制备的单晶金刚石；该方法采用微波等离子体化学气相沉积方法合成单晶金刚石，将头发作为碳源，通过在双基片MPCVD反应装置腔体内刻蚀人体头发的同时生长出单晶金刚石。