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本发明公开了一种在三维微结构表面制备透明导电纳米线网格薄膜的方法，首先制作上表面具有三维微结构的刚性基底，然后采用压印方式以刚性基底为模板制作与之配合的柔性压板，在刚性基底三维微结构上涂覆导电纳米线混合液并用柔性压板向下挤压至二者之间保留一定间隙，留存在间隙中的导电纳米混合液干燥后即得到附着在刚性基底三维微结构表面的纳米网格薄膜，网格中相互搭接的导电纳米线实现电路导通，纳米线之间的网孔透光，实现透明，即实现三维微结构表面的透明导电纳米线网格薄膜制备；刚性基底在涂覆导电纳米线混合液之前采用氧化后腐蚀的方法形成微台阶，与柔性压板配合可以控制间隙尺寸；所得透明导电纳米线网格薄膜质量高，制备效率高，成本低。

本发明提供了一种内嵌金属网格型透明导电薄膜的制备方法，属于激光微纳加工和透明导电薄膜领域。首先在基底上旋涂一层PVP，然后利用激光束在PVP/基底上刻蚀网格阵列形状的凹槽；通过磁控溅射镀膜仪在经激光刻蚀过的PVP/基底表面和凹槽内溅射一层的金属；溅射完将金属/PVP/基底置于乙醇中去除PVP和PVP表层的金属，即可得到内嵌金属网格/基底。本发明在保证薄膜光学性能的同时，可最大程度地提高电学性能，其操作简单、不需要配制金属颗粒墨水和掩膜，对设备无特殊要求，制备成本低。