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本发明公开了一种用于陶瓷托槽的新抛光工艺机器,包括支撑架和底座,所述支撑架固设在所述底座的顶面上,所述支撑架的前侧设有能用来滚动抛光陶瓷托槽以及间歇性排水的滚动抛光机构,所述滚动抛光机构包括两个转动设在所述支撑架前侧面上的支撑块,位于右侧所述支撑块的左侧面上转动设有旋转台,所述旋转台左侧面上固设有滚筒,所述滚筒内开设有开口向左的滚筒腔,本发明通过两种抛光方式,包括陶瓷托槽和混合液的滚动抛光以及打磨皮的左右来回摩擦抛光,来使陶瓷托槽表面更加具有光泽度,并且装置能够自动进行转换不同抛光机构运行,极大的节省了人工劳动力。
📄 2020105748654 📂 B24B31_02 👤 江西瑞福祥陶瓷有限公司 📅 2020-06-22
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发明 已授权

一种用于陶瓷托槽的新抛光工艺机器

2020105748654 · 江西瑞福祥陶瓷有限公司
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🔋 高能量密度固态电解质材料与制备工艺
预算:¥50-100万截止:2026-08-30发布方:××新能源科技响应:8人

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固态锂电池电解质专利包

转让方:中国科学院××研究所
受让方:××新能源科技有限公司
交易类型:独占许可
交易金额:¥320万
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CRISPR基因编辑技术

转让方:××大学
受让方:××生物医药有限公司
交易类型:转让
交易金额:¥1,200万
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SiC功率器件工艺专利

转让方:××半导体有限公司
受让方:××汽车电子集团
交易类型:转让
交易金额:¥680万
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钙钛矿光伏组件技术

转让方:××科技公司
受让方:××能源集团
交易类型:开放许可
交易金额:¥50万/年