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全部发明实用新型外观设计

法律状态：全部已授权审中

项目申报：全部报过没有报过

实用新型已授权

本实用新型公开了一种便于电晕处理的印染膜片，涉及印刷技术领域，包括印染膜本体，所述印染膜本体包括中间层、底层、顶层，所述底层设置在中间层的底部，所述顶层设置在中间层的顶部，所述中间层包括基膜、上连接层、下连接层，所述上连接层设置在基膜的顶部，所述下连接层设置在基膜的底部。本实用新型便于电晕处理的印染膜片，能够较为精准的保证电晕质量，从而提高了电晕的处理效果，保证了表面附着力，从而提高了印染质量，能够保证喷涂的油墨溢出，能够保证油墨层的高度不高于印染膜本体的表面，从而保证油墨层不被磨损。

📄 2020214410002 📂 B32B27_32 👤 李书昊 📅 2020-07-21

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实用新型已授权

一种便于电晕处理的印染膜片

2020214410002 · 李书昊

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CRISPR基因编辑技术

转让方：××大学
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交易类型：转让
交易金额：¥1,200万

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SiC功率器件工艺专利

转让方：××半导体有限公司
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交易类型：转让
交易金额：¥680万

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钙钛矿光伏组件技术

转让方：××科技公司
受让方：××能源集团
交易类型：开放许可
交易金额：¥50万/年

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