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一种均匀打磨整平装置

实用新型已授权

本实用新型公开了一种均匀打磨整平装置，涉及到打磨整平设备技术领域，包括底座，底座的上表面固定有四个支柱，四个支柱的顶端固定有托板，底座与托板平行设置，且底座与托板之间设置有电磁铁，底座上设置有支撑座，支撑座的顶部设置有第一伸缩式液压缸。通过第一伸缩式液压缸推动打磨整平组件下移，使得打磨整平组件带动两固定块下移，固定块借助弹簧推动载块下移，以此带动挡板下移抵在托板上，挡板可以将待加工铁板的四周完全包裹，随着第一伸缩式液压缸的不断下移，打磨整平组件与铁板接触并对其加工，该过程中所产生的碎屑可以被全面隔挡在挡板的内部，使得挡板的应用更加方便，阻屑效果更好。

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