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本发明公开了一种模具抛光打磨设备,其结构包括:加工台装置、缓冲底座、装载台、控制器、抛光台装置、移动机架,使设备使用时,通过设有的加工台机构,使本发明能够实现避免在对于模具件进行抛光的时候,会产生较多的铁屑残留于加工台上,普遍清理方式使用风机进行吹出在进行打扫收集,容易影响到操作人员视野,清理效率低下也容易飞到操作人员的眼睛内,带来不必要的麻烦的问题,使设备通过设有的外框槽包围住加工平台,使得抛光产生的铁屑都自动留置于其中,在摆杆装置的相互配合下对于外框槽内的铁屑自动进行摆动收集,电磁铁吸附方式更加的方便,同时搭配回收筒进行最终的收集处理,也大大增加了操作人员的便利性。
📄 2020106517746 📂 B24B19_20 👤 吴彬玲 📅 2020-07-08
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发明 已授权

一种模具抛光打磨设备

2020106517746 · 吴彬玲
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🔋 高能量密度固态电解质材料与制备工艺
预算:¥50-100万截止:2026-08-30发布方:××新能源科技响应:8人

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固态锂电池电解质专利包

转让方:中国科学院××研究所
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交易类型:独占许可
交易金额:¥320万
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CRISPR基因编辑技术

转让方:××大学
受让方:××生物医药有限公司
交易类型:转让
交易金额:¥1,200万

SiC功率器件工艺专利

转让方:××半导体有限公司
受让方:××汽车电子集团
交易类型:转让
交易金额:¥680万
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钙钛矿光伏组件技术

转让方:××科技公司
受让方:××能源集团
交易类型:开放许可
交易金额:¥50万/年