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摘 要:本发明涉及半导体激光器技术领域,尤其涉及一种基于掩埋金属掩膜的脊表面光栅制作方法,包括以下步骤:在基片的指定区域上形成具有光栅图形的掩埋金属掩膜;在掩埋金属掩膜之上形成具有脊波导图形的光刻胶掩膜,并基于光刻胶掩膜刻蚀形成脊波导结构;去除作为掩膜的光刻胶并在裸露的基片以及脊波导结构的表面镀制电隔离层;在电隔离层上套刻电极窗口并露出掩埋金属掩膜;基于掩埋金属掩膜在脊波导结构的表面刻蚀完成光栅的制作。本发明提出的一种基于掩埋金属掩膜的脊表面光栅制作方法,解决了现有的制作工艺在制作中容易损坏光栅结构的问题。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202110572045.6 | 专利名称: | 一种基于掩埋金属掩膜的脊表面光栅制作方法 |
申请日: | 2021-05-25 | 申请/专利权人 | 长春理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 吉林省长春市卫星路7089号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01S5/12搜分类 表 港口搜索 |
公开/公告日: | 2023-04-07 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN113300217B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |