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摘 要:本发明涉及真空镀膜技术领域,具体涉及一种热蒸发镀膜方法及其装置。所述镀膜的实现方法是:从蒸发源扩散出来的膜料粒子,在其传输到基片表面的过程中,允许部分的膜料粒子通过通道传输到基片表面,实现薄膜沉积,其余的膜料粒子受到遮挡,无法沉积到基片上,通道位于基片和蒸发源之间,调节通道通-阻的比例和变换快慢,实现对膜料粒子的扩散控制。本发明同时提供可以实现该方法的装置。本发明的方法和装置结构简单,成本低廉,系统紧凑,能根据需要对沉积频率和占空比进行调节,实现对膜厚和结构的有效控制。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201510496271.5 | 专利名称: | 一种热蒸发镀膜方法及其装置 |
申请日: | 2015-08-14 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C14/26搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
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日期 | 法律信息 | 备注 |