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摘 要:本发明提供了一种化学机械抛光垫及其制备方法和应用,属于超精密加工技术领域。以质量百分含量计,所述化学机械抛光垫由以下原料制备得到:磨料25~45%、还原剂15~30%、氧化剂15~30%、催化剂5~20%、活性剂1~3%、结合剂5~25%和填料1~10%。本发明将各化学试剂和磨料等物质加入到抛光垫中发挥作用,抛光时使用去离子水代替抛光液,节约了抛光液生产、运输费用,可将废物排放降到最低,减少了环保处理费用,降低了生产成本;同时本发明的化学机械抛光垫还具有良好的抛光质量。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202110870787.7 | 专利名称: | 一种化学机械抛光垫及其制备方法和应用 |
申请日: | 2021-07-30 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B24B37/24搜分类 化工机械 机械抛光 机械制造搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |