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摘 要:本发明公开一种基于空化和介电泳的多相流抛光方法及抛光系统,该方法为将待抛光平面工件放置在一个静止的过流腔体内,使磨粒流发生空化后进入过流腔体,并在过流腔体内施加非均匀电场将磨粒极化,导致其受力不均匀而向工件表面发生移动聚集,经空化作用的磨粒流在非均匀电场作用下对待抛光工件的平面进行抛光,达到均匀抛光的效果。本发明的抛光方法抛光的工件表面均匀、表面粗糙度低、表面质量高、加工效率高。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201910477046.5 | 专利名称: | 一种基于空化和介电泳的多相流抛光方法及抛光系统 |
申请日: | 2019-06-03 | 申请/专利权人 | 浙江工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市下城区潮王路18号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B24B1/00搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2020/09/11 | 授权 | |
2019/10/15 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): B24B 1/00 专利申请号: 201910477046.5 申请日: 2019.06.03 |
2019/09/17 | 公开 |