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摘 要:本发明公开一种液晶齐聚物及其制备亚5nm孔径均孔膜的方法。所述液晶齐聚物含有在紫外辐照下可降解的邻硝基苯甲酯官能团及衍生结构。其分子特征如下:R1,R2,R3为苯甲酯上位于3,4,5位的烯烃取代基团;R4,R5为邻硝基苯甲酯苯环上3,4‑位取代基。制膜方法如下:将液晶齐聚物、光引发剂、添加剂、溶剂混合形成均相溶液,旋涂或浸涂在基底上,退火诱导组装后,用紫外光辐照,将辐照后的薄膜在溶剂中浸泡、漂洗,即形成孔径小于5nm的均孔膜。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201811070055.4 | 专利名称: | 一种液晶齐聚物及其制备亚5nm均孔膜的方法 |
申请日: | 2018-09-13 | 申请/专利权人 | 浙江工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市下城区潮王路18号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C09K19/20搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2020/09/11 | 授权 | |
2019/03/08 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): C09K 19/20 专利申请号: 201811070055.4 申请日: 2018.09.13 |
2019/02/12 | 公开 |