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摘 要:一种安培力作用下的可控深度激光减材制造方法,包括以下步骤:(1)对待减材工件进行预处理;(2)将两个电极分别设置在待开槽区域的两端,将磁铁的两个磁极分别设置在待开槽区域的两侧;(3)在两个电极之间通入直流电流;两个磁极在待开槽区域形成磁场,控制电流方向和磁场方向,以确保电场和磁场产生的安培力的方向与待减材工件的重力方向相反;(4)开启激光器,同时从待开槽区域沿x轴方向的两侧自上而下向开槽区域倾斜喷射保护气,熔融的金属在安培力作用下脱离熔池,且在保护气的冲击作用下沿x轴方向的两侧排出,凹槽形成;(5)停止激光器、电场和磁场的作用,清理溢出的金属。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201711245972.7 | 专利名称: | 一种安培力作用下的可控深度激光减材制造方法 |
申请日: | 2017-12-01 | 申请/专利权人 | 浙江工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市下城区潮18号浙江工业大学科技处 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B23K26/364搜分类 激光搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |