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摘 要:本发明公开了一种基于量块理念的梯度功能研抛盘的制备方法,将传统的研磨盘分隔成多个一级环,并且将所有分割出的环分割成多个等级的二级环,所有的二级环形成具有多个梯度的等级库,根据加工工件的加工要求,从等级库中取出相应等级的环组合形成具有梯度分布的研抛盘。本发明实现了在一个研抛盘上可以同时完成研磨和抛光工序,提高了加工的效率;研抛盘的弹性模量在轴向和径向上都存在弹性模量的梯度式分布,工件更容易实现按需去除,提高加工表面的质量;基于量块的等级理念,创新的构建了一个研抛盘的等级库,可以实现研抛盘的实时组合,替换方便,且便于任意工件的加工,很容易便可以配组出与之适应的研抛盘。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201710010028.7 | 专利名称: | 基于量块理念的梯度功能研抛盘的制备方法 |
申请日: | 2017-01-06 | 申请/专利权人 | 浙江工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B24D18/00搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2019/03/05 | 授权 | |
2017/06/23 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): B24D 18/00 专利申请号: 201710010028.7 申请日: 2017.01.06 |
2017/05/31 | 公开 |