发明专利已授权

一种基于D-H坐标系的KB镜成像优化方法

📄 申请号：CN202010465623.1 📄 发布日：2026/08/24

著录项目信息

申请日

2020-05-28

申请人

重庆工商大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G02B27_00

IPC 分类号

G02B27_00 , G02B21_24 ,

技术画像

所属领域

其他分类其他

应用场景

X射线显微成像, 同步辐射实验, 材料表征, 半导体检测

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摘要

本发明公开了一种基于D‑H坐标系的KB镜成像优化方法，可以提高KB镜的成像效果。一种基于D‑H坐标系的KB镜成像优化方法，包括：S1、设计KB显微成像系统；S2、KB镜结构仿真；S3、KB镜光学仿真，通过仿真获得光线像差，并分析得到：子午方向的成像质量随着视场角度的变化规律；弧矢方向的成像质量随着视场角度的变化规律；S4、基于步骤S3的仿真结果，通过调整前镜M1、后镜M2的位姿和距离，提高KB镜的成像效果。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20241122

?? 专利权的转移：

20210824

✅ 授权

20200821

?? 实质审查的生效：

20200728

📄 公开

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