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摘 要:本发明公开了一种248纳米波段的零级抑制相位掩模,主要由石英基片以及设置在石基基片一侧表面的槽形结构的光栅构成,其特征在于:所述相位掩模的光栅周期为1050nm~1090nm,槽形深度为240~260nm,所述光栅的每一凸起结构的截面形状为上窄下宽的梯形,梯形的顶部占宽比为0.40~0.46,梯形角为5~13度。本发明的相位掩模,实现了透射248纳米波段激光的零级抑制,相位掩模的零级透过率可以被抑制在2%以内;±1级透射衍射效率高于36%,且与入射光的偏振状态无关。
著 录 项:
专利/申请号: | CN200810023116.1 | 专利名称: | 248纳米波段的零级抑制相位掩模 |
申请日: | 2008-07-14 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G02B6/02搜分类 纳米材料搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |