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摘 要:本发明基于聚焦元件阵列层和微图文阵列层,首次提出了一种双成像方法、装置及其应用,通过像素单元构成具有待成像图形的微图文单元,所述像素单元在光源的照明下产生散射光与零级光;多个微图文单元的零级光分别聚焦后,汇聚形成第一套放大的莫尔图像;微图文单元的散射光经聚焦后形成第二套放大的莫尔图像。上述成像方法和系统具有特殊的光响应,可用于信息与图像处理、防伪安全、包装装饰等领域。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201711376762.1 | 专利名称: | 一种双成像方法、装置及其应用 |
申请日: | 2017-12-19 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G02B27/60搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
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日期 | 法律信息 | 备注 |