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摘 要:本发明涉及一种付里叶变换阵列的双成像方法、系统及应用。光源发出的光线照明聚焦元件阵列层和微图文阵列层,通过聚焦元件的汇聚成像作用在聚焦元件阵列的焦点附近形成一系列光源的像点。所述光源发出的光线两次穿过微图文阵列,形成两套付里叶变换谱,分别形成莫尔图像;上述成像方法和系统具有特殊的光响应,可用于信息与图像处理、防伪安全、包装装饰等领域。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201810061952.2 | 专利名称: | 一种付里叶变换阵列的双成像方法、系统及其应用 |
申请日: | 2018-01-23 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G02B27/60搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
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日期 | 法律信息 | 备注 |