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摘 要:本申请提供一种渐变遮盖提花织物的织造方法,属于织造方法技术领域。在纬纱排列为甲纬:乙纬=2:1的单经双纬结构中,设计两组表里纬组织和对应遮盖技术点并用影光加强法实现织物甲纬单纬渐变、乙纬和甲纬混合渐变两种显色效果,渐变最大显色组织数为[R/N(6R‑2J2‑J1‑3)+2],渐变级别数≤最大显色组织数;主要步骤是:(1)结构模型构建,(2)甲纬和乙纬组织的选择,(3)表、里组织和遮盖技术点的设计,(4)表层影光组织库设计,(5)表、里组织组合设计,(6)遮盖技术点验证,(7)数码图案设计,(8)织物组合结构设计,(9)织造,设计所得织物满足遮盖要求且可大批量生产。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202011370196.5 | 专利名称: | 一种渐变遮盖提花织物的织造方法 |
申请日: | 2020-11-30 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | D03D13/00搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |