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摘 要:本发明实施例公开了一种受激辐射损耗超分辨成像系统及方法,通过分光单元将激光器产生的入射光分离为波长不同的激发光和擦除光;然后由第一光路调整单元调整激发光和擦除光的方向,将激发光与擦除光进行重叠;再由扫描单元将重叠后的激发光和擦除光同步扫描至待成像样品;最后成像单元对待成像样品受激发所产生的荧光信号进行STED超分辨成像。通过本发明的实施,由分光单元通过分光的方式从单一光源中分离出STED超分辨成像所需的两种类型的激光,可以有效降低系统硬件冗杂度,扩展了系统的应用范围,并节省了成像成本。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201910309100.5 | 专利名称: | 一种受激辐射损耗超分辨成像系统及方法 |
申请日: | 2019-04-17 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G01N21/64搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
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日期 | 法律信息 | 备注 |