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摘 要:本发明适用于光学技术领域,提供了一种光场度量标定方法,包括:提供标定物,通过三维测量装置投射结构光的图案到标定物上,通过光场成像装置记录结构光的光场并获得相位编码场;通过三维测量装置重构空间物点的三维坐标,获得光场成像装置的物空间的度量深度;通过相位编码场计算空间物点在光场成像装置像空间的像点的深度剪切值,将深度剪切值与度量深度组成一组测量深度坐标;改变标定物的方位重复上述步骤,获得多组测量深度坐标,用于标定光场成像装置的物空间和像空间深度度量关系。基于该度量关系,可以由像空间的深度精确的确定物空间的深度,使得光场成像不仅具备像空间深度感知的功能,还具备了物空间中的深度测量的功能。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201810844861.6 | 专利名称: | 一种光场度量标定方法及标定系统 |
申请日: | 2018-07-27 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G01B11/25搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2020/09/25 | 授权 | |
2019/03/01 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): G01B 11/25 专利申请号: 201810844861.6 申请日: 2018.07.27 |
2019/01/29 | 公开 |