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摘 要:本发明公开了一种X射线吸收光栅制作方法及其X射线吸收光栅,制作方法包括步骤:在基底上制作光栅槽或光栅孔,形成光栅槽阵列或光栅孔阵列;有机溶剂、水、表面活性剂清洗基底;金属纳米颗粒加入挥发性溶剂和表面活性剂,制得悬浊液;真空下,将金属纳米颗粒悬浊液填充至光栅微结构中,且金属纳米颗粒沉降填满光栅槽或光栅孔;检测,如填充不均匀或者光栅微结构内没有布满金属纳米颗粒,继续填充;清洗基底表面的金属纳米颗粒。吸收光栅包括基底,基底上设有光栅槽阵列或光栅孔阵列,光栅槽或光栅孔填满金属纳米颗粒。本发明的吸收光栅与熔融金属材料制成的光栅性能相差无几,且制作方法简单、门槛低、成本低廉,便于在普通实验室操作及实现。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201811642783.8 | 专利名称: | X射线吸收光栅制作方法及其X射线吸收光栅 |
申请日: | 2018-12-29 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G21K1/02搜分类 射线搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2020/10/27 | 授权 | |
2019/06/18 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): G21K 1/02 专利申请号: 201811642783.8 申请日: 2018.12.29 |
2019/05/24 | 公开 |