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摘 要:本发明公开了一种耐低温高阻透明导电膜及其制备方法,涉及透明导电薄膜材料技术领域。本发明先用葡聚糖对氧化石墨烯进行还原,制得改性石墨烯,然后,将预处理硅片分别浸泡于聚烯丙胺盐酸盐溶液和四氯合锌酸铵溶液中,制得改性硅片,最后将改性硅片与改性石墨烯混合,并在还原剂的作用下反应,制得载膜硅片,揭膜后,干燥,制得耐低温高阻透明导电膜。本发明制备的耐低温高阻透明导电膜具有较好的透光率,且电阻率相对较高,在低温条件下能良好的使用。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201910893169.7 | 专利名称: | 一种耐低温高阻透明导电膜及其制备方法 |
申请日: | 2019-09-20 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01B1/04搜分类 导电膜搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |