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摘 要:本发明公开了一种半电波暗室场均匀性测试装置,包括半电波暗室和控制室,控制室位于半电波暗室外,且半电波暗室和控制室互为独立空间,半电波暗室内设置有发射天线和全向场探头,且发射天线和全向场探头之间的地上铺设有吸波材料;控制室内设置有信号发生器,信号发生器依次连接有功率放大器和定向耦合器,定向耦合器通过射频电缆连接位于半电波暗室内的发射天线。本发明能够对不同尺寸的半电波暗室进行场均匀性的测试,能够根据不同的半电波暗室尺寸,寻找到在电磁辐射抗扰度试验中EUT的最佳位置,从而能够更加准确的评估EUT的抗干扰性能,使结果更加的准确可靠,提高了测试效率,有效降低了测试成本和生产成本。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201610317732.2 | 专利名称: | 一种半电波暗室场均匀性测试装置及其方法 |
申请日: | 2016-05-13 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G01R29/08搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |