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摘 要:本发明涉及一种降低六方氮化硼二维薄膜厚度的方法。目前六方氮化硼原子层薄膜的可通过化学气相沉积法生长,但六方氮化硼原子层薄膜生长质量不高,比如单晶晶畴尺寸小,薄膜表层有分散的氮化硼颗粒物或连续的颗粒膜,这些都影响到氮化硼薄膜的性能与应用。本方法通过化学气相沉积法首先合成氮化硼薄膜,然后在不同气氛中对薄膜进行热处理去除表层中的颗粒物,获得薄膜厚度降低后的高质量六方氮化硼二维薄膜,这种方法对于降低氮化硼薄膜厚度与提高薄膜质量是有益的。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201610038377.5 | 专利名称: | 一种降低六方氮化硼二维薄膜厚度的方法 |
申请日: | 2016-01-20 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C16/34搜分类 塑料搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 7000.0元 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2020/09/04 | 专利权的转移 | 登记生效日: 2020.08.17 专利权人由杭州电子科技大学变更为浙江启博知识产权运营有限公司 地址由310018 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街变更为310018 浙江省杭州市钱塘新区白杨街道科技园路20号9幢504室 |
2018/09/25 | 授权 | |
2016/07/06 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): C23C 16/34 专利申请号: 201610038377.5 申请日: 2016.01.20 |
2016/06/08 | 公开 |