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摘 要:本发明公开了一种磨粒浮动式自适应电化学机械抛光加工方法及装置,属于电化学机械抛光领域。本发明的抛光方法为:a、构建浮动式磨粒抛光系统:该抛光系统包括磨粒、支撑组件和电解液供给系统,支撑组件设有用于放置磨粒的容纳腔,磨粒可活动地安装在该容纳腔内,容纳腔设有下入口和上出口,以控制电解的流入与流出,将工件设于容纳腔上出口的上方,使电解液供给系统从容纳腔下入口处给工件供给电解液;b、进行抛光加工,并可根据实际加工需求通过调整电解液压力实现。本发明通过控制电解液压力的方式,既控制了电解蚀除效率,又控制了机械磨削力,实现了磨削力自适应电解蚀除效率的目的,控制方便且准确,抛光精度和效率高。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201711115032.6 | 专利名称: | 一种磨粒浮动式自适应电化学机械抛光加工方法及装置 |
申请日: | 2017-11-13 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | 搜分类 化工机械 化学化工 抛光加工 机械抛光 加工方法 平整表面的加工方法 机械制造搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2019/02/26 | 授权 | |
2018/05/08 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): B23H 5/06 专利申请号: 201711115032.6 申请日: 2017.11.13 |
2018/04/13 | 公开 |