发明专利 已授权

一种双面陶瓷片抛光机

📄 申请号:CN201611216868.0 📄 发布日:2026/11/10

著录项目信息

申请日
2016-12-26
公开号
CN106475888A
公开日
2017-03-08
申请人
桂林理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

陶瓷片精密加工, 电子陶瓷制造, 陶瓷基板生产, 半导体陶瓷加工, 光学陶瓷加工

摘要

本发明公开了一种双面陶瓷片抛光机,属于抛光设备领域。包括底座、安装在底座上端面上的移动平台、安装在移动平台上的抛光组件、安装在底座上端面上并对应抛光组件的工件放置台组件和控制器;工件放置台组件包括第一放置台、第一滑梯和第二放置台;位于第一滑梯入口处并相对第一放置台一侧设置翻转部;对应第一放置台还设有推杆机构;对应第一放置台和第二放置台的上端面工件放置处下方设置有压力传感器,所述控制器连接压力传感器;所述控制器连接控制第一移动机构、第二移动机构和驱动电机。本发明体积小巧,能实现陶瓷片双面抛光,能有效改善实验人员工作环境和提高实验效率。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20180508
✅ 授权
20170405
?? 实质审查的生效 :
20170308
📄 公开

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