实用新型已授权

半导体制程废气的加热处理装置

Name: 半导体制程废气的加热处理装置
Brand: 无锡洁安洁通用设备有限公司
SKU: 2022217644218
Availability: InStock

📄 申请号：CN202221764421.8 📄 发布日：2026/10/22

著录项目信息

申请日

2022-07-08

公开号

CN218475103U

公开日

2023-02-14

申请人

无锡洁安洁通用设备有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

B01D53_78

IPC 分类号

B01D53_78 , B01D53_68 ,

技术画像

所属领域

其他分类其他

应用场景

半导体制造, 晶圆制造, 废气治理, 工业尾气处理

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摘要

本实用新型公开了半导体制程废气的加热处理装置，应用在半导体加工废气处理设备技术领域，其技术方案要点是：半导体制程废气的加热处理装置，包括进料筒、反应筒和出料筒，所述进料筒中部设置有密封组件，所述上限位盘和下限位盘内部分别开设有第一环形槽和第二环形槽，所述进料筒和出料筒靠近反应筒的一端均嵌入固定连接有注射环。本实用新型通过雾化喷头、网罩、格栅和加热元件之间相互配合，通过雾化喷头将水呈环形倾斜向上雾化喷出，附着在网罩以及格栅表面，便于半导体制程废气更好的与水结合，同时通过加热元件使网罩以及格栅保持稳定的反应温度，便于氟化物在高温环境下和水反应，节约了净化的时间，同时提高了半导体废气的净化效率。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN218475103U

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该专利的转让价格是多少？

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

半导体制程尾气处理系统

当前第 / 件

一种快速定位的连续模

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