实用新型 已授权

一种低剖面低入射角度敏感性的吸波表面

📄 申请号:CN202121612802.X 📄 发布日:2026/09/11

著录项目信息

申请日
2021-07-15
公开号
CN215816434U
公开日
2022-02-11
申请人
电子科技大学长三角研究院(湖州)
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

雷达隐身, 电磁兼容, 电磁屏蔽, 微波暗室, 天线隔离

摘要

本实用新型公开了一种低剖面低入射角度敏感性的吸波表面,包括介质基板、印刷在介质基板正面的由有耗频率选择单元排布组成的二维平面周期阵列、金属背板;有耗频率选择单元由边缘交指化的电阻性方环贴片以及金属方贴片嵌套而成。本实用新型能够在工作频段内达到90%以上的吸波率,同时对于TE、TM极化,俯仰入射角在0~40°范围以及任意方位入射角的入射电磁波,保持较好的性能稳定性。相比于现有技术,本实用新型的优点是剖面极其低,重量轻,加工较方便,在工作频带内吸波率高,极化稳定性和角稳定性较好,有很好的工程应用前景。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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