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发明专利
已授权
一种可再生展青霉素吸附剂及其制备方法
📄 申请号:CN202310656604.0
📄 发布日:2026/08/04
著录项目信息
申请日
2023-06-05
公开号
CN116786084A
公开日
2023-09-22
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
B01J20_22
IPC 分类号
B01J20_22
,
B01J20_30
,
B01J20_34
,
B01J27_24
,
B01J37_08
,
B01D15_08
,
技术画像
所属领域
吸附剂
吸附材料
功能材料
吸附分离技术
吸附剂
应用场景
食品脱毒, 果汁加工, 农产品安全, 霉菌毒素去除, 食品工业
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摘要
本发明公开了一种可再生展青霉素吸附剂及其制备方法,本发明通过在g‑C3N4材料表面接枝‑SH,提高其对PAT的吸附性能,同时,利用g‑C3N4材料在可见光下的光催化效应,通过“避光吸附‑光催化再生”过程,实现吸附剂的循环利用,降低吸附剂的成本;与目前普通巯基功能化PAT吸附剂相比,具有光催化活性的巯基化g‑C3N4不仅具有高吸附容量和选择性,同时解决了一直以来备受关注的循环使用问题,有效降低了吸附剂成本,有利于产业化应用推广。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
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