发明专利 已授权

场强分布可调的分裂式磁场辅助同轴激光熔覆装置

📄 申请号:CN202010098490.9 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2020-02-18
公开号
CN111118497B
公开日
2024-03-26
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

表面强化, 再制造, 模具修复, 增材制造, 耐磨涂层

摘要

场强分布可调的分裂式磁场辅助同轴激光熔覆装置,包括与激光光路同轴设置的激光传输通道、喷嘴,激光传输通道外套有轴套套筒,激光传输通道和轴套套筒的下端均连接喷嘴;轴套套筒与激光传输通道、喷嘴同轴心设置;轴套套筒上套接有轴套,轴套上套接卡槽环装置,卡槽环装置包括上锥齿轮卡槽环、传动锥齿轮、下锥齿轮卡槽环,其中传动锥齿轮与轴套固结,上锥齿轮卡槽环、下锥齿轮卡槽环分别通过轴承连接在轴套套筒上;传动锥齿轮的上下侧分别与上锥齿轮卡槽环、下锥齿轮卡槽环啮合。本发明的外加稳态磁场可随激光熔覆头同步移动,可以实现复杂路径的调控加工,方便快捷,适用范围广。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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