发明专利 已授权

一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置

📄 申请号:CN201510318594.5 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2015-06-11
公开号
CN105032810B
公开日
2017-03-01
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

工业设备清洗, 仪器仪表清洗, 精密零部件清洗, 管道清洗

摘要

本发明公开了一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置。本发明中的机壳是一个包含多个观察窗口的长方体,机壳的正侧面可整体向上开启,观察盖设于其正侧面;内框结构位于整体机壳内;内框结构中的内框支撑座位于整个内框结构的底部,内框支架的四面布置了网状钢架,网状钢架上按螺旋线规律布置一系列涡流导流管,内框前盖与观察盖的位置对应;滑动模块中的导轨座上架设有滑轨,移动滑块与滑轨配合,移动滑块在滑轨上移动时,带动滑动涡流管支架移动,仪器放置架位于移动滑块的路径上,用于放置待清洗的仪器设备。本发明不仅可以快速、高效地对深海仪器、设备等进行清洗,也能满足仪器清洁度的要求,并且不会造成二次污染。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20170301
✅ 授权
20151209
?? 实质审查的生效 :
20151111
📄 公开

同领域国内专利 · IPC: (B08B3_02)

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:123 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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