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发明专利
已授权
硅片上银纳米颗粒致密层的制备方法
📄 申请号:CN201710707061.5
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2017-08-17
公开号
CN107460462B
公开日
2019-03-19
申请人
西安工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C23C18_44
IPC 分类号
C23C18_44
,
C23C18_18
,
B82Y40_00
,
技术画像
所属领域
纳米材料
纳米材料
金属纳米颗粒
表面改性技术
应用场景
表面增强拉曼散射检测, 生物传感器, 光电探测, 微电子器件, 医疗器械
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摘要
本发明涉及硅片上银纳米颗粒致密层的制备方法,步骤为:将硅片先后置于碱洗液和酸洗液浸泡使硅片表面羟基化;置于巯基丙基三甲氧基硅烷的甲苯溶液中反应使硅片硅烷化;先后分别置于硝酸银溶液和硼氢化钠溶液中以生成银籽晶;置于硝酸银和聚乙烯吡咯烷酮的混合溶液中,之后滴入抗坏血酸溶液以使银籽晶不断长大;重复多次后冲洗,并超声吹干。本发明借助于具有双功能的有机分子先将银籽晶固定于硅片上,之后原位还原得到银籽晶,再通过后期的多次循环生长,可得到致密的、均匀的银颗粒膜层,此金属颗粒膜层在SERS应用中,可以在较大的范围内(如微米范围)保持均匀的、较高的增强效果,而且此制备方法重复性好。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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📋 交易方式:
委托待转让
📌 交易状态:
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