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发明专利
已授权
一种超支化PEI修饰的磁性二氧化硅分子印迹聚合物的制备方法
📄 申请号:CN201910919643.9
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2019-09-26
公开号
CN110713565B
公开日
2021-06-18
申请人
浙江海洋大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C08F220_06
IPC 分类号
C08F220_06
,
C08F222_14
,
C08K9_10
,
C08K9_08
,
C08K3_22
,
C08K3_36
,
C08J9_26
,
B01J20_26
,
B01J20_28
,
B01J20_30
,
技术画像
所属领域
分子印迹聚合物
分子印迹聚合物
功能高分子材料
磁性纳米材料
应用场景
分析检测, 固相萃取, 环境监测, 生物医药, 食品安全
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摘要
本发明涉及印迹聚合物技术领域,公开了一种超支化PEI修饰的磁性二氧化硅分子印迹聚合物的制备方法。包括以下步骤:1)将四氧化三铁粉末加入无水乙醇中搅拌混合形成溶胶状混合液,滴加正硅酸乙酯,陈化;2)烷基化处理得烷基化二氧化硅包覆四氧化三铁颗粒;3)将烷基化二氧化硅包覆四氧化三铁颗粒加入超支化聚乙烯亚胺溶液得超支化聚乙烯亚胺接枝二氧化硅颗粒;4)加入甲基丙烯酸单体交联反应,即得。以二氧化硅包覆四氧化三铁微球为载体,功能单体甲基丙烯酸在载体表面发生交联形成球状印迹聚合物微球,具有高比表面积,增多与模板分子结合位点。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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