发明专利已授权

一种三氟化氮等离子清洗装置

📄 申请号：CN201610529020.7 📄 发布日：2026/07/27

著录项目信息

申请日

2016-07-07

公开号

CN106180079A

公开日

2016-12-07

申请人

洛阳高昌机电科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B08B7_00

IPC 分类号

B08B7_00 , B08B13_00 ,

技术画像

所属领域

清洗装置等离子体清洗半导体制造设备表面处理清洗装置

应用场景

半导体晶圆清洗, 精密电子元器件清洗, 显示面板制造, 太阳能电池制造

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摘要

本发明公开了一种三氟化氮等离子清洗装置，包括壳体、电解仓和热触点，所述壳体左侧设有开口并与清洗仓外壳左端固定连接，所述清洗仓左侧设有开口并与仓盖通过螺纹连接，所述清洗仓腔体内侧壁粘贴条形电极板，并且清洗仓底部内壁和仓盖内壁粘贴圆形电极板，所述清洗仓外壳外部套装螺旋线圈，所述粒子加速器通过特制弧形管道与清洗仓右端连接，所述清洗仓右端通过导管与真空泵连接，所述真空泵固定安装在壳体内部并通过排气管与尾气处理装置连接，所述热触点与清洗仓内部支架固定连接，所述热触点和标定块均通过导线与电压表连接，该装置采用三氟化氮作为离子供给源，采用等离子腐蚀的方式清洗，有效避免电路板和元器件损伤。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

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