发明专利 已授权

一种三氟化氮等离子清洗装置

📄 申请号:CN201610529020.7 📄 发布日:2026/07/27

著录项目信息

申请日
2016-07-07
公开号
CN106180079A
公开日
2016-12-07
申请人
洛阳高昌机电科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体晶圆清洗, 精密电子元器件清洗, 显示面板制造, 太阳能电池制造

摘要

本发明公开了一种三氟化氮等离子清洗装置,包括壳体、电解仓和热触点,所述壳体左侧设有开口并与清洗仓外壳左端固定连接,所述清洗仓左侧设有开口并与仓盖通过螺纹连接,所述清洗仓腔体内侧壁粘贴条形电极板,并且清洗仓底部内壁和仓盖内壁粘贴圆形电极板,所述清洗仓外壳外部套装螺旋线圈,所述粒子加速器通过特制弧形管道与清洗仓右端连接,所述清洗仓右端通过导管与真空泵连接,所述真空泵固定安装在壳体内部并通过排气管与尾气处理装置连接,所述热触点与清洗仓内部支架固定连接,所述热触点和标定块均通过导线与电压表连接,该装置采用三氟化氮作为离子供给源,采用等离子腐蚀的方式清洗,有效避免电路板和元器件损伤。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

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