发明专利 已授权

一种结构色薄膜及其制备方法

📄 申请号:CN202411567246.7 📄 发布日:2026/06/16

著录项目信息

申请日
2024-11-05
公开号
CN119684789B
公开日
2025-12-05
申请人
浙江理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

防伪标识, 显示器件, 光学器件, 装饰材料, 传感器

摘要

本发明属于结构色材料技术领域,具体涉及一种结构色薄膜及其制备方法,结构色薄膜包括中空SiO2光子晶体模板和填充于中空SiO2光子晶体模板间隙中的高强度阻燃聚合物;其中,中空SiO2光子晶体模板经过硅烷偶联剂改性后再填充高强度阻燃聚合物。本发明的结构色薄膜以具有阻燃和高机械强度的聚合物为目标填充材料,以改性后的中空SiO2光子晶体模板为模板,将聚合物填充到模板间隙中,得到具有耐苛刻环境的结构色薄膜。结构色薄膜在苛刻环境中展现出优异的阻燃性、结构稳定性和耐强酸、强碱特性。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (C08L77_10)

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:51 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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