发明专利已授权

一种基于散射聚焦的高分辨率焦散矢量涡旋光场产生系统

📄 申请号：CN202310451994.8 📄 发布日：2026/06/16

著录项目信息

申请日

2023-04-25

公开号

CN116430585B

公开日

2025-12-05

申请人

浙江理工大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G02B27_00

IPC 分类号

G02B27_00

技术画像

所属领域

光场调控光场调控涡旋光束散射介质成像

应用场景

光学显微成像, 光镊与微粒操控, 光通信, 激光加工

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摘要

本发明公开了一种基于散射聚焦的高分辨率焦散矢量涡旋光场产生系统，其主要包括生成焦散矢量涡旋光场的4f系统、对目标进行汇聚和放大的显微物镜、散射介质以及CMOS接收器，其中4f系统中包含对相位进行调制的空间光调制器。所述系统可以通过对焦散与涡旋相位的调控生成目标的焦散矢量涡旋光场，不仅能够快速测算矢量光学传输矩阵，还可以在散射介质后产生具有高分辨率的目标焦散矢量涡旋光场。此系统适用于需要在散射介质后产生高分辨率焦散矢量涡旋光场的行业，此外，还可通过附加角向相位产生带有角向偏振态变化的高分辨率焦散矢量涡旋光场，具有操作便捷，灵活调控，光场分辨率高，效果稳定等特点。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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