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发明专利
已授权
基于散射聚焦实现多偏振态光场于异位点聚焦的光学系统
📄 申请号:CN202510084792.3
📄 发布日:2026/06/16
著录项目信息
申请日
2025-01-20
公开号
CN119960200B
公开日
2026-03-27
申请人
浙江理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
G02B27_28
IPC 分类号
G02B27_28
,
G02B27_48
,
G02B27_40
,
G02B27_00
,
G02B21_02
,
G02B21_24
,
G02B5_30
,
G02B5_20
,
G02F1_01
,
技术画像
所属领域
光学系统
光场调控
偏振调控
散射聚焦
光学系统
应用场景
光学微操纵, 生物医学成像, 激光微加工, 偏振成像, 光通信
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摘要
本发明公开了基于散射聚焦实现多偏振态光场于异位点聚焦的光学系统,包括激光器,用于发射激光并入射4f系统;所述4f系统,用于将两束正交圆偏振光叠加生成矢量光场,包含能够对光场相位进行调制的空间光调制器,第一傅里叶透镜,第二傅里叶透镜,双孔滤波器,双胶合波片和一块朗奇光栅;依次排列顺序为空间光调制器,第一傅里叶透镜,双孔滤波器,双胶合波片,第二傅里叶透镜,朗奇光栅,双孔滤波器紧贴双胶合波片,除此之外各元件间距离均为傅里叶透镜焦距f;通过对介质后散斑内不同偏振态分量的提取计算对应的矢量传输矩阵,并利用不同分量的矢量传输矩阵实现经过散射介质后的不同偏振态多点同时聚焦,且能够实现聚焦位置的任意调控。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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