实用新型 已授权

一种单晶硅差压传感器

📄 申请号:CN202220814486.2 📄 发布日:2026/06/15

著录项目信息

申请日
2022-04-11
公开号
CN217819159U
公开日
2022-11-15
申请人
浙江泰盛克仪表有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

工业过程控制, 差压监测, 流量测量, 液位测量, 压力监测

摘要

本实用新型涉及差压传感器领域,涉及一种单晶硅差压传感器,本实用新型包括左腔部、右腔部和传感器组件,所述左腔部上设有左侧波纹膜片,所述左腔部内设有左侧导油槽,右腔部上设有右侧波纹膜片,右腔部内设有右侧导油槽,左腔部和右腔部之间设有中心膜片,传感器组件包括由下至上依次相连的填料层、转接块、陶瓷块、单晶硅片和芯片组件,填料层和转接块设于左腔部上端,单晶硅片连通左侧导油槽与右侧导油槽,芯片组件外侧套设有限位套,左腔部上端面设有第一限位柱,右腔部上端面设有第二限位柱,通过中心膜片与波纹膜片的形变可以有效防止单晶片因过大的单向压力而产生损坏,且左腔部与右腔部尺寸相同,保证了传感器的一致性。

常见问题

这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN217819159U

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该专利的转让价格是多少?

当前标价为议价,可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (G01L13_06)

G01L13_00 G01L13_06 覆盖2个领域
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:73 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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