发明专利已授权

一种基坑支护结构

📄 申请号：CN202211029188.3 📄 发布日：2026/09/22

著录项目信息

申请日

2022-08-26

公开号

CN115419079B

公开日

2026-03-06

申请人

翁伟超

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

E02D17_04

IPC 分类号

E02D17_04

技术画像

所属领域

其他分类其他

应用场景

建筑工程, 基坑施工, 地下空间开发, 城市地铁建设, 市政工程

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摘要

本申请涉及基坑支护的技术领域，尤其是涉及一种基坑支护结构，其包括若干支护单元，支护单元包括呈弧形设置的支护板、安装在支护板外壁上的第一扇叶和至少一根安装在支护板内壁上的弧形杆，支护板的一边设有供相邻支护板上的弧形杆转动穿设的穿设槽，穿设槽与弧形杆一一对应，弧形杆与支护板内壁之间的水平间距自支护板的一边向支护板的另一边逐渐增大，支护板的内侧设有收纳腔；当支护板在弧形杆上转动，使得所有支护板呈同轴线设置时，所有支护板将呈周向设置，且每两块相邻的支护板相对的一边均呈间隔设置；支护板的顶部安装有固定单元，固定单元位于弧形杆与支护板内壁之间的水平间距较大的一边处。本申请能够提高基坑的支护效率。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN115419079B

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该专利的转让价格是多少？

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

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议价

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📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：13 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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