实用新型 已授权

一种水基研磨液循环利用的环保型抛光设备

📄 申请号:CN202521205374.7 📄 发布日:2026/08/21

著录项目信息

申请日
2025-06-13
公开号
CN224255087U
公开日
2026-05-19
申请人
正鑫(苏州)科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号

技术画像

所属领域

应用场景

精密加工, 半导体制造, 金属表面处理, 光学元件加工

摘要

本实用新型公开了一种水基研磨液循环利用的环保型抛光设备,涉及抛光设备技术领域,包括抛光设备主体,所述抛光设备主体的一侧固定安装有控制箱,所述抛光设备主体的内部活动安装有抛光台,所述抛光台的内部活动安装有连接轴,所述连接轴的顶部固定连接有驱动电机,所述抛光设备主体的左侧固定连接有连接管。本实用新型通过过滤滤芯、离心分离筒、传动带、旋转电机、出料管和传输管相互配合,利用过滤滤芯对使用后的水基研磨液进行收集、过滤,并配合旋转电机带动传动带转动,从而驱动离心分离筒内部进行转动,达到离心分离的功能,并配合储存罐进行存储,实现水基研磨液的循环利用,减少水资源的浪费和对环境的污染。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (B24B57_00)

B24B57_00 B24B57_02 B24B57_04 覆盖3个领域
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:5 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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