实用新型 已授权

一种半导体晶片厚度检测装置

📄 申请号:CN202421067491.7 📄 发布日:2026/04/23

著录项目信息

申请日
2024-05-16
公开号
CN222188272U
公开日
2024-12-17
申请人
深圳市旺年华电子有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 晶圆检测, 芯片生产, 半导体材料加工

摘要

本实用新型涉及半导体检测装置领域,公开了一种半导体晶片厚度检测装置,包括底座和待测晶片,所述底座上端固定设置有固定机构,所述固定机构包括操作台、两个螺纹块和四个固定块,所述操作台内表面固定设置有两个滑杆,所述操作台靠近前端转动套设有双向丝杆,所述双向丝杆的前端固定连接有控制旋钮,所述双向丝杆杆身靠近前端固定套设有发条弹簧,两个所述螺纹块的两侧均固定设置有伸缩杆,所述底座上端靠近后端固定设置有检测机构,所述检测机构包括保护框和固定板。本实用新型中,该检测装置中设置有固定机构和检测机构,固定机构可以保证晶片检测过程中的稳定性,检测机构可以有效避免晶片被挤压损坏。

常见问题

这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN222188272U

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该专利的转让价格是多少?

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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议价
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