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发明专利
已授权
一种强化底部絮凝效果的絮凝池及其絮凝方法
📄 申请号:CN202110442699.7
📄 发布日:2026/08/07
著录项目信息
申请日
2021-04-23
公开号
CN113200590A
公开日
2021-08-03
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C02F1_52
IPC 分类号
C02F1_52
技术画像
所属领域
水处理技术
水处理技术
絮凝技术
应用场景
市政污水处理, 工业废水处理, 给水处理, 水体净化
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摘要
本发明公开了一种强化底部絮凝效果的絮凝池及其絮凝方法。该絮凝池的底部设置有沿水流方向依次排列的多个隔板扰流组件。每个隔板扰流组件均包括一块或并排设置的多块隔板。沿着水流方向,各隔板扰流组件内的隔板与水流方向的夹角逐渐减小。本发明相较于传统絮凝方法,增加了在底部生成涡旋强化絮凝效果的办法,使絮凝的效率更高。本发明从入水口到出水口的方向上,不同排隔板的间距呈从小到大的趋势,隔板与絮凝池底部的角度呈从大到小的趋势,使得絮凝池中沿水流方向产生从大到小的涡旋,既在初始絮凝阶段提高絮凝速度,又在絮凝结束阶段避免大涡旋切碎絮体。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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当前第 / 件
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