发明专利已授权

一种强化底部絮凝效果的絮凝池及其絮凝方法

Name: 一种强化底部絮凝效果的絮凝池及其絮凝方法
Brand: 杭州电子科技大学
SKU: 2021104426997
Availability: InStock

📄 申请号：CN202110442699.7 📄 发布日：2026/10/08

著录项目信息

申请日

2021-04-23

公开号

CN113200590A

公开日

2021-08-03

申请人

杭州电子科技大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C02F1_52

IPC 分类号

C02F1_52

技术画像

所属领域

其他分类其他

应用场景

市政污水处理, 工业废水处理, 给水处理, 水体净化

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摘要

本发明公开了一种强化底部絮凝效果的絮凝池及其絮凝方法。该絮凝池的底部设置有沿水流方向依次排列的多个隔板扰流组件。每个隔板扰流组件均包括一块或并排设置的多块隔板。沿着水流方向，各隔板扰流组件内的隔板与水流方向的夹角逐渐减小。本发明相较于传统絮凝方法，增加了在底部生成涡旋强化絮凝效果的办法，使絮凝的效率更高。本发明从入水口到出水口的方向上，不同排隔板的间距呈从小到大的趋势，隔板与絮凝池底部的角度呈从大到小的趋势，使得絮凝池中沿水流方向产生从大到小的涡旋，既在初始絮凝阶段提高絮凝速度，又在絮凝结束阶段避免大涡旋切碎絮体。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN113200590A

购买这项专利需要经过哪些流程？

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该专利的转让价格是多少？

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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