实用新型已授权

一种基于入射光偏振控制的双模式光学显微成像装置

📄 申请号：CN202321100932.4 📄 发布日：2026/06/03

著录项目信息

申请日

2023-05-09

公开号

CN220105413U

公开日

2023-11-28

申请人

河北博夏光电信息科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

G02B21_34

IPC 分类号

G02B21_34 , G02B21_06 , G01N21_84 , G01N21_01 , G01N21_13 ,

技术画像

所属领域

偏振控制光学显微成像偏振光学成像系统偏振控制

应用场景

生物医学观察, 材料表面分析, 半导体检测, 工业检测

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摘要

本实用新型涉及微纳光学技术领域，且公开了一种基于入射光偏振控制的双模式光学显微成像装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有两个撑杆，两个所述撑杆的顶部外壁固定安装有物镜，两个所述滑块的内部均滑动连接有滑杆，所述限位板左侧外壁固定安装有电动伸缩杆。该基于入射光偏振控制的双模式光学显微成像装置，通过电动伸缩杆带动垫板和滑块向左移动，滑块将会沿着滑杆所在方向进行移动，达到方便观察生物样品的效果，且通过电动推动载片的方式来对其进行递送，解决了传统的显微成像装置一般需要将载片手扶放置到指定位置，来对生物样品进行显影检测，手扶载片的话可能会沾染较多的细菌或者灰尘，可能会影响最后的显影效果的问题。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种用于聚醚酰亚胺制备的螺杆挤出机

当前第 / 件

一种电解电容封装产线

同领域国内专利 · IPC: (G02B21_34)

G02B21_00 G02B21_02 G02B21_04 G02B21_06 G02B21_08 G02B21_12 G02B21_18 G02B21_24 G02B21_26 G02B21_32 G02B21_34 G02B21_36 覆盖12个领域

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