摘要
本实用新型提供一种上釉均匀的陶瓷上釉装置,涉及陶瓷加工技术领域,本实用新型包括底座,所述底座的顶部固定连接有矩形框,所述底座的内部设置有第一电机,所述第一电机的输出端固定连接有转动杆,所述转动杆远离第一电机的输出端的一端固定连接有操作盘,所述操作盘的顶部设置有限位装置,所述底座的顶部固定连接有储釉箱,所述储釉箱的一侧设置有搅拌装置,使用限位装置的时候,控制限位杆在滑槽的内部滑动,进而使得限位杆向靠近操作盘圆心的方向移动,进而通过限位杆把需要进行上釉的毛坯限制在操作盘的中间,使得操作盘转动的时候可以带动毛坯沿着其的中轴转动,进而在一定程度上使得烧制好的毛坯可以均匀上釉。