实用新型 已授权

一种适用于复杂面的抛光轮

📄 申请号:CN202322933545.5 📄 发布日:2026/08/25

著录项目信息

申请日
2023-10-31
公开号
CN221474834U
公开日
2024-08-06
申请人
嘉兴祥瑛机械设备制造有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

所属领域

应用场景

表面抛光, 模具加工, 五金制造, 精密制造

摘要

本实用新型属于抛光设备技术领域,尤其为一种适用于复杂面的抛光轮,包括抛光盘、阻尼弹伸机构、软垫和砂布,其中,所述抛光盘包括圆形板本体,并且圆形板本体上开设有阵列分布的限位孔,所述阻尼弹伸机构设置有多个,多个所述阻尼弹伸机构设置在圆形板本体对应的限位孔上。本实用新型通过设置抛光盘、阻尼弹伸机构、软垫和砂布,砂布粘接在阻尼弹伸机构端部的软垫上,在进行有曲面的产品打磨抛光时,砂布能够随着产品表面的轮廓进行一定的伸缩,随着产品表面的轮廓轨迹进行移动,继而实现产品各个位置上的抛光加工,处理效果完善、效率高,解决了现阶段装置不能够满足曲面产品打磨的问题。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20240806
✅ 授权

同领域国内专利 · IPC: (B24D13_14)

B24D13_10 B24D13_14 覆盖2个领域
¥2100.0
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:2 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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