摘要
本实用新型属于抛光设备技术领域,尤其为一种适用于复杂面的抛光轮,包括抛光盘、阻尼弹伸机构、软垫和砂布,其中,所述抛光盘包括圆形板本体,并且圆形板本体上开设有阵列分布的限位孔,所述阻尼弹伸机构设置有多个,多个所述阻尼弹伸机构设置在圆形板本体对应的限位孔上。本实用新型通过设置抛光盘、阻尼弹伸机构、软垫和砂布,砂布粘接在阻尼弹伸机构端部的软垫上,在进行有曲面的产品打磨抛光时,砂布能够随着产品表面的轮廓进行一定的伸缩,随着产品表面的轮廓轨迹进行移动,继而实现产品各个位置上的抛光加工,处理效果完善、效率高,解决了现阶段装置不能够满足曲面产品打磨的问题。