实用新型 已授权

一种硅片表面污染清洗装置

📄 申请号:CN202520048478.5 📄 发布日:2025/12/29

著录项目信息

申请日
2025-01-09
公开号
CN223405526U
公开日
2025-10-03
申请人
安徽晶天新能源科技有限责任公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 晶圆清洗, 集成电路制造

摘要

本实用新型涉及清洗装置领域,尤其涉及一种硅片表面污染清洗装置,包括有底板;底板的上端左部固接有清洗箱,清洗箱的上端为开口状。本实用新型通过将圆形的硅片从上向下穿过第二槽体并放置在两个托块的上端,使得圆形硅片的下端被两个托块的上端支撑,同时圆形的硅片的前后两端会与第二槽体内壁的前后两端贴合,实现对圆形硅片的限位,然后将安装块放置在第一槽体的内壁,此时固定块的下端和第一U型板的下端内壁贴合,就可以将一排安装块放置在一排第一槽体的内壁,底板内本身设有可以浸没圆形硅片的清洗液,然后开启搅拌组件可以对清洗箱内的水溶液进行搅拌,开启换能器可以对浸没在清洗箱内的圆形硅片进行超声波清洗。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

……

……

图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (B08B3_10)

相似专利推荐 AI 驱动 · 同领域

暂无同领域相似专利推荐
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:114 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

资金托管 权属尽调 包过户
🏢 淄博智来知识产权服务有限公司
✓ 企业认证✓ 手机绑定历史成交 0件好评率 98.5%

📊 出价记录 (3条)
王**¥-10万
李** 企业¥-8万
陈**¥-3万
查看全部出价