实用新型 已授权

一种用于硅片的表面清洗装置

📄 申请号:CN202022464123.4 📄 发布日:2025/11/13

著录项目信息

申请日
2020-10-30
公开号
CN214022332U
公开日
2021-08-24
申请人
江西钛创新能源科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 晶圆清洗, 集成电路工艺

摘要

本实用新型涉及硅片加工领域,具体为一种用于硅片的表面清洗装置,包括清洗槽,所述清洗槽的上侧安装有顶板,所述顶板的底部四角处均通过连杆和清洗槽的外壁固定连接。本实用新型通过放置框连通硅片在清洗槽内移动,同时通过超声波发生器产生超声波带动水分子跳动,达到对硅片表面清洗的效果,提升了清洗的效率,使得清洗的更加彻底,较为实用,适合广泛推广与使用。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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议价
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📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:142 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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