发明专利已授权

一种连续流动微射流均质设备

📄 申请号：CN202411347353.9 📄 发布日：2025/09/08

著录项目信息

申请日

2024-09-26

公开号

CN118874303B

公开日

2024-12-24

申请人

温州理工学院

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B01F35_11

IPC 分类号

B01F35_11 , B01F35_00 , B01F33_71 ,

技术画像

所属领域

均质设备流体处理设备高压均质微射流技术均质设备

应用场景

制药设备, 生物医药, 纳米材料制备, 食品加工, 化妆品制造

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摘要

本发明涉及液体加工技术领域，具体地涉及一种连续流动微射流均质设备，包括支撑部件，支撑部件的前端上固定安装有分散器和对位部件，且对位部件位于分散器的前端，分散器的顶端固定安装有传输管道，支撑部件包括同步装置和传动装置，同步装置对称固定安装在传动装置的顶部前端，传动装置包括微射流均质设备主体、第一齿条、放置底座、接收量杯、延伸基架、对接管头、第四齿轮、第二齿条和液压气缸，液压气缸对称固定安装在微射流均质设备主体的顶端，放置底座固定安装在液压气缸的前端，接收量杯滑动插接在放置底座的顶端上。通过支撑部件和对位部件的设置，实现了微射流均质机在使用时进行交替式对位传输与同步化清洁内壁的目的。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种打印均匀的3D打印设备

当前第 / 件

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